在半导体产业主要应用对象的干式真空泵，会在许多抽气工艺过程中出现一些颗粒物，一般说来，在干式真空泵中出现颗粒物有三种情况：

1、当泵内压力增高时引起气固变相过程的发生；

2、在泵内产生反应气体的生成物；

3、抽气过程混入的颗粒物。

干式机械真空泵的应用是广泛的，主要有以下几个方面：
1)低压化学气相沉积中的多晶硅制备工艺中；
2)半导体刻蚀工艺。在这些生产工艺中往往用到或生成腐蚀性气体和研磨微粒；
3)除半导体工艺外的某些产生微粒的工艺，不希望微粒混入泵油中，而希望微粒排出泵外，则用一定型
式的干式机械真空泵可以满足要求；
4)用做一般无油清洁真空系统的前级泵，以防止油污染；
5)在化学工业、医药工业、食　品工业中的蒸馏、干燥、脱泡、包装等，要防止有机溶剂造成污染，适合用干式真空泵。
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